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      立式EMI磁控鍍膜生產線

      立式EMI磁控鍍膜生產線

      • 所屬分類:立式EMI磁控鍍膜生產線
      • 瀏覽次數:
      • 發布日期:2021-01-14 17:54:00
      • 產品概述
      • 性能特點
      • 技術參數

      立式磁控鍍膜生產線設備簡介

      ★該立式磁控鍍膜生產線可鍍的工藝膜系有:金膜、銀膜、鋁膜、鈦金膜、不銹鋼膜等單質膜和氧化膜、復合膜、增透膜、增亮膜、光學膜、ITO導電膜、EMI屏蔽膜等等。設備能生產的產品有銀鏡、鋁鏡、彩色玻璃、工藝玻璃、光伏玻璃、光電玻璃、ITO導電玻璃、非導玻璃等,以及PC、PVC、PET等材料表面鍍AR、AF、ITO、非導等膜和金屬單質膜等工藝。設備主要應用在手機鏡片和手機后蓋鍍膜、電子、電器、軍工、家電、五金、玩具、汽車、建筑、建材、燈飾、裝飾等眾多行業領域。本設備的優點:抽速快及穩定、產量高、特殊的傳動結構運行平穩不卡頓(吸收進口設備精華)。高真空部分可根據客戶實際需要全選擇油擴散泵或分子泵,或兩者搭配使用;設計有防返油機構,減少對產品的污染;使用國內或國外知名品牌真空泵機組,加上人性化結構設計理念和智能控制及顯示系統,使設備盡善盡美。

       立式EMI磁控鍍膜生產線

      ★工藝氣體:氣、氧氣、氮氣等,具體看生產的產品而定。

      ★靶材材質:金、銀、銅、鋁、鈦、鋯、硅、鎳、鉻、錫、銦、鈮、不銹鋼等或錫銦、硅鋁、鎳鉻等合金。

      磁控濺射電源:直流電源、中頻電源、射頻電源、離子轟擊電源、離子源電源(按客戶需要而定)

      ★該立式磁控鍍膜生產線的結構:有34鎖、54鎖、56鎖、76鎖、98鎖。

      上片平移臺(上片)-----前粗抽室(進片室、帶轟擊、粗抽真空泵機組)-----前高真空室(精抽真空泵機組)-----前過渡室-----鍍膜室1、2、3(鍍膜室的個數按工藝而定,精抽真空泵機組、磁控濺射陰極靶、氣體系統-----后過渡室-----后高真空室(精抽真空泵機組)-----后粗抽室(粗抽真空泵機組)-----下片平移臺(下片臺)-----回流架1、2、3------連接到上片平移臺(如此循環工作)。

       立式EMI磁控鍍膜生產線

      ★該立式磁控鍍膜生產線的工作流程:現以76鎖為例。

      在上片平移臺處的工件架小車上掛上或貼上基片-----放氣數秒并開真空鎖1,工件架小車進入到前粗抽室后關真空鎖1并抽真空、轟擊(有時需要充入氬氣)----當抽到真空度后打開真空鎖2后工件架進入前高真空室后關真空鎖2繼續抽高真空-----達到一定真空后開鎖3并進入前過渡后關真空鎖3、工件架慢速進入鍍膜室1、2、3進行磁控濺射鍍膜工作(鍍膜真空度在2×10-1Pa左右,按工藝而定)-----鍍膜結束后工走到過渡室-----開真空鎖4并進入后高真空室關真空鎖4后停留一定時間后-----開真空鎖5并進入后粗抽室后關真空鎖5、放氣數秒后開真空鎖6-----工件架進入到下片平移臺并下片臺-----下片結束后平移到回流架1,工件架從回流架1、2、3------Z后送回到上片平移臺回架處-----平移臺平移到前粗抽室前真空鎖1前面停留等待上片(如此循環工作)。

       立式EMI磁控鍍膜生產線

      磁控濺射工作原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬(氧、氮等)原子發生碰撞,電離出大量的氬(氧、氮等)離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場磁力的作用下,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,Z終沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。磁控濺射的基本原理是利用 Ar02N2混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下,被加速的高能粒子轟擊靶材表面,能量交換后,靶材表面的原子脫離原晶格而逸出,轉移到基體表面而成膜。

      立式EMI磁控鍍膜生產線

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